Осенью прошлого года японская компания Canon передала Intel первую установку для исследования технологии нанопечати, предназначенной для производства 5-нм чипов. Эта новаторская методика обещает снизить затраты на оборудование и значительно сократить потребление электроэнергии. Недавно компания DNP представила материал для производства чипов размером 1,4 нм с использованием данной технологии.
Как отмечает Nikkei Asian Review, разработанный DNP материал дает возможность создавать специализированные матрицы, которые формируют рисунок на кремниевых пластинах для дальнейшего травления и превращения в полупроводниковые чипы. В 2027 году DNP планирует начать массовое производство этих расходных материалов, что в сочетании с оборудованием Canon позволит производить 1,4-нм чипы, снижая энергозатраты на 90 % по сравнению с традиционными методами литографии.
Несмотря на интерес таких компаний, как Samsung, TSMC и Micron, они пока ориентированы на классическую фотолитографию. Canon и Nikon, некогда лидеры в производстве литографического оборудования, уступили свою позицию ASML, контролирующей 90 % рынка. Fujifilm Holdings также заявила о намерении заняться производством материалов для нанопечати, однако изменить ситуацию на рынке фотолитографии будет сложно.